中商情報網(wǎng)訊：光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料，是半導體制造中使用的核心電子材料之一。隨著晶圓制造規(guī)模持續(xù)提升，中國有望承接半導體光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈轉移。
一、光刻膠定義
光刻膠，也被稱為“光致抗蝕劑”，是一種用于光刻的載體介質，它可以利用光化學反應將光信息在光刻系統(tǒng)中經(jīng)過衍射和過濾后轉化為化學能，從而將微細圖形從掩模版轉移到待處理的基板。
按顯影效果不同，光刻膠可分為正光刻膠和負光刻膠；按化學結構不同可分為光聚合型、光分解型和光交聯(lián)型；按下游應用可分為半導體光刻膠、面板光刻膠、PCB光刻膠。具體如圖所示：
資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
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