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3.濺射靶材

濺射靶材是指一種用濺射沉積或薄膜沉積技術(shù)制造薄膜的材料。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2024-2029中國(guó)靶材市場(chǎng)現(xiàn)狀及未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)》顯示，2022年中國(guó)靶材市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到395億元，同比增長(zhǎng)6.76%，2023年市場(chǎng)規(guī)模約為431億元。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預(yù)測(cè)，2024年中國(guó)靶材行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到476億元。

數(shù)據(jù)來(lái)源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

4.光刻機(jī)

（1）市場(chǎng)規(guī)模

近年來(lái)，在消費(fèi)電子需求相對(duì)低迷的情況下，電動(dòng)汽車、風(fēng)光儲(chǔ)、人工智能等新需求成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)成長(zhǎng)的新動(dòng)能，全球光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模平穩(wěn)增長(zhǎng)。數(shù)據(jù)顯示，2022年全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模為1076.5億美元，其中光刻機(jī)市場(chǎng)占比約為24%，規(guī)模達(dá)到約258.4億美元，2023年約為271.3億美元。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預(yù)測(cè)，2024年全球光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模將增至295.7億美元。

數(shù)據(jù)來(lái)源：SEMI、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

（2）重點(diǎn)企業(yè)分析

目前中國(guó)光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)較少，主要企業(yè)包括上海微電子裝備有限公司、北京華卓精科科技股份有限公司、北京科益虹源光電技術(shù)有限公司、長(zhǎng)春國(guó)科精密光學(xué)技術(shù)有限公司、北京國(guó)望光學(xué)科技有限公司、浙江啟爾機(jī)電技術(shù)有限公司、東方晶源微電子科技公司。具體如圖所示：

資料來(lái)源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

5.刻蝕機(jī)

刻蝕機(jī)主要用來(lái)制造半導(dǎo)體器件、光伏電池及其他微機(jī)械等。近年來(lái)，全球刻蝕機(jī)市場(chǎng)規(guī)模呈增長(zhǎng)趨勢(shì)。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2017-2027全球及中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)深度研究報(bào)告》顯示，2019-2022年，全球刻蝕機(jī)市場(chǎng)規(guī)模由115億美元增至139.9億美元，復(fù)合年均增長(zhǎng)率達(dá)6.8%，2023年約為148.2億美元。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預(yù)測(cè)，2024年全球刻蝕機(jī)市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)156.5億美元。

數(shù)據(jù)來(lái)源：Gartner、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理